发明名称 涂敷装置
摘要 一种基板处理系统,具备:处理单元,其对基板进行涂敷处理;基板送入单元,其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器,且回收空的所述送入用容器;基板送出单元,其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器,且被供给空的所述送出用容器;输送单元,其具有输送机构,该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器,并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转,能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。
申请公布号 CN103077911A 申请公布日期 2013.05.01
申请号 CN201210580019.9 申请日期 2009.08.25
申请人 东京应化工业株式会社 发明人 佐保田勉;岛井太;佐藤晶彦
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 雒运朴
主权项 一种涂敷装置,其中,具有:旋转机构,其以基板竖立的状态使所述基板旋转;涂敷机构,其具有在所述基板旋转的同时向所述基板的表面及背面分别喷出液状体的喷嘴。
地址 日本神奈川县