| 发明名称 | 微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统 | ||
| 摘要 | 扫描微光刻投射曝光设备(10)中用于照明掩模(16)的照明系统具有物镜(52；152；252；352；452)，该物镜具有物平面(50；150；250；350；450)、至少一个光瞳面(60；160；360；460)和其中能布置掩模(16)的像平面(54；154；354；454)。提供反射或透射的光束偏转元件(Mij；Tij)的光束偏转阵列(40；140；340；440)，其中每一光束偏转元件(Mij；Tij)适于将打入光束偏转一偏转角，该偏转角响应于控制信号可变。依照本发明，该光束偏转元件(Mij；Tij)布置在物镜(52；152；252；352；452)的物平面(50；150；250；350；450)中或紧邻所述物平面。 | ||
| 申请公布号 | CN101796460B | 申请公布日期 | 2013.05.01 |
| 申请号 | CN200780100451.0 | 申请日期 | 2007.08.30 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 马库斯·德冈瑟;迈克尔·莱 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种在扫描微光刻投射曝光设备(10)中用于照明掩模(16)的照明系统，包括：a)物镜(52；152；252；352；452)，该物镜具有物平面(50；150；250；350；450)、至少一个光瞳面(60；160；360；460)和其中能布置掩模(16)的像平面(54；154；354；454)，b)反射或透射的光束偏转元件(Mij；Tij)的光束偏转阵列(40；240；340；440)，其中每一光束偏转元件(Mij；Tij)适于将打入光束偏转一偏转角，该偏转角响应于控制信号可变，其特征在于，该光束偏转元件(Mij；Tij)布置在物镜(52；152；252；352；452)的物平面(50；150；250；350；450)中或紧邻所述物平面。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||