光掩模及其制造方法、图案转印方法及液晶显示装置制作方法

摘要

本发明涉及光掩模及其制造方法、图案转印方法及液晶显示装置制作方法。一种光掩模，该光掩模对形成在待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜转印包含线与间隙图案的预定转印图案，使抗蚀剂膜成为在所述蚀刻加工中作为掩模的抗蚀剂图案，其中，利用半透光部设置形成在透明基板上的线与间隙图案的线图案，利用透光部设置间隙图案。

主权项

一种光掩模，该光掩模对形成在待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜转印包含线与间隙图案的预定转印图案，使所述抗蚀剂膜成为所述蚀刻加工中作为掩模的抗蚀剂图案，其中，所述光掩模具有的所述转印图案是由透光部和半透光部构成的线与间隙图案，所述透光部和半透光部是通过对形成在透明基板上的半透光膜进行构图而形成的，所述转印图案上的所述线与间隙图案的线图案是由所述半透光部形成的，所述半透光部的曝光光的透射率大于等于1%小于等于30%，并且，所述半透光部形成有使得其与所述透光部之间的曝光光的相位差为小于等于90度的半透光膜，所述间隙图案是由所述透光部形成的，其中，在设所述转印图案上的线与间隙图案的线宽为LM、间隙宽度为SM，设所述蚀刻加工后形成在所述被加工体上的线与间隙图案的线宽为LP、间隙宽度为SP时，满足LM＞LP且SM＜SP的关系。