发明名称 |
利用改善的采样的微分相位对比成像 |
摘要 |
本发明涉及对象的微分相位对比成像。为了增加X射线成像系统(2)的空间分辨率,探测器像素元件(8)的大小可以被认为是限制因素。相应地,增加用于相位对比成像的设备(38)的分辨率,而无需进一步降低个体像素元件(8)的面积。相应地,提供了利用改善的采样的相位对比成像的设备(38),其包括X射线源(4)、第一格栅元件G1(24)、第二格栅G2(26)以及包括多个探测器像素元件(8)的X射线探测器元件(6),每个探测器像素元件(8)具有像素面积A。待成像的对象(14)能够被布置在X射线源(4)与X射线探测器元件(6)之间。X射线源(4)、第一格栅元件G1(24)、第二格栅元件G2(26)和X射线探测器(6)能操作地耦合以用于对象(14)的相位对比图像的采集。第一格栅元件G1(24)和第二格栅元件G2(26)中的至少一个包括具有第一格栅跨度p1的第一面积A1和具有与第一格栅跨度不同的第二格栅跨度p2的第二面积A2。 |
申请公布号 |
CN103079469A |
申请公布日期 |
2013.05.01 |
申请号 |
CN201180041580.3 |
申请日期 |
2011.08.26 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
T·克勒 |
分类号 |
A61B6/03(2006.01)I;G01N23/04(2006.01)I;G01N23/20(2006.01)I |
主分类号 |
A61B6/03(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
王英;刘炳胜 |
主权项 |
一种用于相位对比成像的格栅装置(40),包括:第一格栅元件G1(24);第二格栅元件G2(26);并且其中,所述第一格栅元件(24)和所述第二格栅元件(26)中的至少一个包括:具有第一格栅跨度p1、q1的第一面积A1,以及具有与所述第一格栅跨度p1、q1不同的第二格栅跨度p2、q2的第二面积A2。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |