发明名称 |
一种具有电流阻挡层的发光二极管 |
摘要 |
本发明涉及一种具有电流阻挡层的发光二极管,从下至上依次包括衬底、缓冲层、非掺杂GaN层、n型GaN层、n型GaN层上形成的n电极、有源层、p型GaN层、电流阻挡层、透明导电层和透明导电层上形成的p电极,其特征在于:所述透明导电层和所述电流阻挡层上均设有开孔结构,用于使所述p电极能通过所述透明导电层和所述电流阻挡层上的开孔结构与所述p型GaN层接触。本发明阻止了因p电极正下方的电流流动而造成电流阻塞效应,提高了发光强度;避免了活性层发出的光在p电极正下方被吸收,提高了光提取效率;增加了电极的粘附性,避免电极脱落的风险;使n电极和p电极颜色一致,方便下游芯片封装厂的自动作业。 |
申请公布号 |
CN103078027A |
申请公布日期 |
2013.05.01 |
申请号 |
CN201310038883.0 |
申请日期 |
2013.01.31 |
申请人 |
武汉迪源光电科技有限公司 |
发明人 |
王汉华;项艺;杨新民;靳彩霞;董志江 |
分类号 |
H01L33/14(2010.01)I;H01L33/38(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/14(2010.01)I |
代理机构 |
北京轻创知识产权代理有限公司 11212 |
代理人 |
杨立 |
主权项 |
一种具有电流阻挡层的发光二极管,从下至上依次包括衬底、缓冲层、非掺杂GaN层、n型GaN层、n型GaN层上形成的n电极、有源层、p型GaN层、电流阻挡层、透明导电层和透明导电层上形成的p电极,其特征在于:所述透明导电层和所述电流阻挡层上均设有开孔结构,用于使所述p电极能通过所述透明导电层和所述电流阻挡层上的开孔结构与所述p型GaN层接触。 |
地址 |
430205 湖北省武汉市东湖高新技术开发区光谷一路227号 |