发明名称 |
反应腔室 |
摘要 |
本发明公开了一种反应腔室。所述反应腔室包括腔体、设置在所述腔体顶部的喷淋头和设置在所述腔体底部且与所述喷淋头相对设置的托盘,所述托盘下方具有加热器。所述反应腔室还包括保温结构,所述保温结构环绕在所述托盘周围。在托盘边缘设置保温结构,能够减少托盘边缘部分的热量散失,使得托盘边缘部分与中间部分的温度基本保持一致,有利于均匀的加热位于托盘上的衬底,在化学气相沉积过程中,能够获得更好的沉积效果,避免了不同区域由于温度不同而引起的沉积率不同的问题,从而使得沉积均匀,获得高质量的膜层。 |
申请公布号 |
CN103074599A |
申请公布日期 |
2013.05.01 |
申请号 |
CN201210592831.3 |
申请日期 |
2012.12.29 |
申请人 |
光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
发明人 |
梁秉文 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种反应腔室,包括腔体、设置在所述腔体顶部的喷淋头和设置在所述腔体底部且与所述喷淋头相对设置的托盘,所述托盘下方具有加热器;其特征在于,所述反应腔室还包括保温结构,所述保温结构环绕在所述托盘周围。 |
地址 |
314300 浙江省嘉兴市海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼 |