发明名称 | 近距疗法装置 | ||
摘要 | 一种可植入敷药器(10),其具有至少一个引导通道(12),用于将放射性种子或源(66)引导到目标区域。多个可成像基准(40),其配置用于与目标区域邻近地接附至患者。电磁传感器(18、20、22、20’、42),其被安装于敷药器以及可成像基准。电磁跟踪系统,其确定所述敷药器上安装的传感器(18、20、22、20’)与所述基准上安装的传感器(42)的相对位置。定位处理器(52)生成与高分辨率图像(46)组合(56)的传感器图。比较处理器(70),其监控传感器位置的变化、生成移动校正变换(72),该移动校正变换将计划图像变换(74)到经变换的计划图像(76)。近距疗法处置处理器(60),其根据计划图像或经变换的计划图像生成处置计划(60a)以控制将放射性源或种子(66)移动通过所述敷药器(10)的通道(12)的自动加载器(64)。 | ||
申请公布号 | CN101835510B | 申请公布日期 | 2013.05.01 |
申请号 | CN200880112860.7 | 申请日期 | 2008.10.20 |
申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | G·谢克特 |
分类号 | A61N5/10(2006.01)I | 主分类号 | A61N5/10(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王英;刘炳胜 |
主权项 | 一种近距疗法装置,包括:a)可植入敷药器(10),其提供用于引导放射性源或种子(66)到目标区域的至少一个引导通道(12);b)能够被高分辨率成像模态成像的多个可成像基准(40)以及用于提供关于所述可植入敷药器(10)以及所述目标区域的位置的信息的多个电磁传感器(18、20、22、20’),每个所述可成像基准(40)包括作为基准传感器的电磁传感器(42),并且所述可成像基准配置用于与所述目标区域邻近地接附至患者,所述多个电磁传感器(18、20、22、20’)安装于所述可植入敷药器(10);c)电磁跟踪系统(48),其包括一个或多个处理器,其中,所述电磁跟踪系统(48)配置用于:i)从所述信息确定所述多个可成像基准(40)和所述多个电磁传感器(18、20、22、20’)中的至少一个的相对位置是否已改变;ii)响应于改变的相对位置调整近距疗法剂量计划,其中,所述一个或多个处理器中的一个是配置用于生成经调整的近距疗法处置计划(60a)的自动疗法计划处理器(60),以及iii)根据变换对所述可植入敷药器(10)和所述目标区域的相对位置进行移位以形成变换的治疗计划图像(76),所述变换的治疗计划图像存储在计划图像存储器(58)中,所述计划图像存储器与所述疗法计划处理器(60)通信,以便生成经调整的近距疗法处置计划(60a)并重新定位所述可植入敷药器(10)。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |