发明名称 改进的纳米压印方法
摘要 本发明涉及一种将由抗蚀剂(2a,12a)制成的结构化的涂层涂覆至基底(6,16)表面上的方法。该方法包括:至少一个压印步骤,其中可流动的抗蚀剂(2,12)压印在压模(1,11)的结构化表面和支承体(3,13)之间以使压模表面有结构化的抗蚀剂(2,12)涂层;各后续的分离步骤,其中具有结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)的压模与具有抗蚀剂涂层的第二部分(2b,12b)的支持体彼此分离;后续的转移步骤,其中压模(1,11)表面上结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)压抵基底(6,16)表面上以将结构化的抗蚀剂涂层(2a,12a)转印到基底(6,16)表面;固化步骤,其中使结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)固化;脱模步骤,其中结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)与压模(1,11)分离。
申请公布号 CN102144188B 申请公布日期 2013.05.01
申请号 CN200980133236.X 申请日期 2009.08.26
申请人 AMO有限公司 发明人 N·库;J·W·金;C·摩尔曼
分类号 G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 顾峻峰
主权项 一种将图案化的抗蚀剂涂层(2a,12a)涂覆至基底(6,16)表面上的方法,包括:至少一个步骤,其中将可流动的抗蚀剂(2,12)设置于压模(1,11)图案化的表面和载体(3,13)之间以使所述压模表面设置有图案化的抗蚀剂(2,12)表面,后续的分离步骤,其中使具有所述图案化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a,12a)的所述压模与具有所述抗蚀剂涂层的第二部分(2b,12b)的所述载体彼此分离;后续的转移步骤,其中将所述压模(1,11)表面上的所述图案化的抗蚀剂涂层的所述第一部分(2a,12a)压抵所述基底(6,16)的所述表面以将所述图案化的抗蚀剂涂层(2a,12a)转印到所述基底(6,16)的所述表面上;固化步骤,其中使所述图案化的抗蚀剂涂层(2a,12a)的所述第一部分(2a,12a)固化;脱模步骤,其中将所述图案化的抗蚀剂涂层的所述第一部分(2a,12a)与所述压模(1,11)分离,其特征在于,所述至少一个步骤执行为压印步骤,其中,将可流动的抗蚀剂(2,12)压印于所述压模(1,11)的图案化的表面和所述载体(3,13)之间;在所述压印步骤之前,还包括涂覆步骤,在所述涂覆步骤中,用所述可流动的抗蚀剂(2,12)涂覆所述载体(3,13),由此‑借助旋涂工艺用所述可流动的抗蚀剂涂覆所述载体,‑或者,所述压模(11)和所述载体(13)被构造成连续的传送带,借助分布装置(19)使所述可流动的抗蚀剂(12)涂覆至所述载体(13),且借助平整辊(18)使所述载体(13)的所述抗蚀剂涂层的厚度恒定。
地址 德国亚琛