一种非制冷红外探测系统像素阵列的制作方法

摘要

本发明涉及一种非制冷红外探测系统像素阵列的制作方法，包括以下步骤：一、在SOI的顶层表面通过光刻结合刻蚀工艺将顶层材料刻穿至到达SOI的埋层材料，在所述SOI的埋层表面形成若干个独立的热隔离柱；二、将所述步骤一中形成的热隔离柱与衬底键合；三、去除SOI的底层材料，露出SOI的埋层底面；四、采用光刻结合刻蚀工艺，对所述步骤三中非热隔离柱区域对应的SOI的埋层进行刻蚀至刻穿，形成若干个独立的像素点；五、采用电子束蒸镀方法，在所述步骤四的像素点表面制备可调谐热光带通滤波器。本发明通过引入键合工艺，在实现像素点之间热隔离的同时，避开使用牺牲层，制造工艺简单可靠，更有利于技术的推广普及。

主权项

一种非制冷红外探测系统像素阵列的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：在SOI的顶层（1）表面通过光刻结合刻蚀工艺将顶层（1）材料刻穿至到达SOI的埋层（2）材料，在所述SOI的埋层（2）表面形成若干个独立的热隔离柱（4）；步骤二：将所述步骤一中形成的热隔离柱（4）与衬底（5）键合；步骤三：去除SOI的底层（3）材料，露出SOI的埋层（2）底面；步骤四：采用光刻结合刻蚀工艺，对所述步骤三中非热隔离柱（4）区域对应的SOI的埋层（2）进行刻蚀至刻穿，形成若干个独立的像素点（6）；步骤五：采用电子束蒸镀方法，在所述步骤四的像素点（6）表面制备可调谐热光带通滤波器（70），获得目标产品。