| 发明名称 | 掩模板、曝光设备最佳焦距的监控方法 | ||
| 摘要 | 一种掩模板、最佳焦距的监控方法，其中，所述掩模板包括：基板；位于基板上的监控图形，所述监控图形包括正方形本体和位于正方形本体的四周侧壁的矩形凸起部，所述矩形凸起部为若干平行的光栅条。采用所述掩模板进行最佳焦距的监控时，提高了监控的精度。 | ||
| 申请公布号 | CN103076715A | 申请公布日期 | 2013.05.01 |
| 申请号 | CN201210556659.6 | 申请日期 | 2012.12.20 |
| 申请人 | 上海宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 谭露璐;赵新民;金乐群;周孟兴 |
| 分类号 | G03F1/44(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/44(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种掩模板，其特征在于，包括：基板；位于基板上的监控图形，所述监控图形包括正方形本体和位于正方形本体的四周侧壁的矩形凸起部，所述矩形凸起部为若干平行的光栅条。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||