激光CVD镀膜设备

摘要

本发明提供了一种激光CVD镀膜设备，包括上壳体与下壳体，上壳体盖合于下壳体上以形成密封的CVD腔体，上壳体内安装有用于带动待镀膜材料在平面移动并确定位置的平面定位装置，待镀膜材料安装于平面定位装置上；下壳体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置和用于将激光源聚焦于该喷气装置喷嘴前端的激光聚焦装置；待镀膜材料位于喷气装置的喷嘴前端并与之相对。平面定位装置包括第一滑槽以及与该第一滑槽垂直设置的第二滑槽，第一滑槽内设有第一滑块，第二滑槽内设有第二滑块，第二滑槽与第一滑块连接，第二滑块上设有安装板，待镀膜材料贴附于安装板上。本发明镀膜效率高、不易损坏待镀膜材料，且所镀出的膜厚均匀、镀膜表面光滑。

主权项

一种激光CVD镀膜设备，包括上壳体与下壳体，所述上壳体盖合于所述下壳体上以形成密封的CVD腔体，其特征在于：所述上壳体内安装有用于带动待镀膜材料在平面移动并确定位置的平面定位装置，所述待镀膜材料安装于所述平面定位装置上；所述下壳体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置和用于将激光源聚焦于该喷气装置喷嘴前端的激光聚焦装置；所述待镀膜材料位于所述喷气装置的喷嘴前端并与之相对。