发明名称 雪崩光电二极管
摘要 本发明的目的在于提供一种能够降低台面表面所引起的暗电流的APD。APD(301)具备:半绝缘性基板(1);在半绝缘性基板(1)面上,按照p型电极层(2)、p型光吸收层(3A)、低杂质浓度的光吸收层(3B)、带隙倾斜层(4)、p型电场控制层(5)、雪崩倍增层(6)、n型电场控制层(7A)、以及低杂质浓度的电子行进层(7B)的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面(101);从层叠方向观察时,外周处于第1台面(101)的外周的内侧,在电子行进层(7B)侧的表面上,按照n型电极缓冲层(8A)、以及n型电极层(8B)的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面(102);和比p型电场控制层(5)处于第2台面(102)侧的层的、在第1台面(101)的外周的内侧包围第2台面(102)的外周的包围部分(14)中形成,防止在偏置施加时p型电场控制层(5)的包围部分耗尽化的耗尽化抑制区域(11)。
申请公布号 CN103081130A 申请公布日期 2013.05.01
申请号 CN201180042213.5 申请日期 2011.09.01
申请人 NTT电子股份有限公司;日本电信电话株式会社 发明人 石桥忠夫;安藤精后;名田允洋;村本好史;横山春喜
分类号 H01L31/107(2006.01)I 主分类号 H01L31/107(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 许海兰
主权项 一种雪崩光电二极管,其特征在于包括:半绝缘性基板;在所述半绝缘性基板面上,按照p型电极层、p型光吸收层、低杂质浓度的光吸收层、带隙倾斜层、p型电场控制层、雪崩倍增层、n型电场控制层、以及低杂质浓度的电子行进层的顺序层叠的第1层叠结构所构成的第1台面;从层叠方向看,外周处于所述第1台面的外周的内侧,在所述第1台面的所述电子行进层侧的表面上,按照n型电极缓冲层、以及n型电极层的顺序层叠的第2层叠结构所构成的第2台面;以及比所述第1台面的所述p型电场控制层处于所述第2台面侧的层的、在从层叠方向看时在所述第1台面的外周的内侧包围所述第2台面的外周的包围部分中形成,防止在偏置施加时所述p型电场控制层的所述包围部分耗尽化的耗尽化抑制区域。
地址 日本神奈川