镀膜装置

摘要

一种镀膜装置，该镀膜装置包括承载台及导电网圈，该承载台包括一承载面，用以承载该待镀膜工件且使该待镀膜工件置于该导电网圈所形成的电场中，面向该承载台的承载面且间隔该承载面设有一离子源，该导电网圈设置于承载台上，且围绕待镀膜工件于其内，该导电网圈与待镀膜工件之间形成一指向待镀膜工件的旋转聚焦加速电场。本发明克服传统镀膜对尺寸较小的工件镀膜效果不好的问题，且加工成本低，适合大规模量产使用。

主权项

一种镀膜装置，其特征在于：该镀膜装置包括承载台及导电网圈，该承载台包括一承载面，用以承载该待镀膜工件，使该待镀膜工件置于该导电网圈所形成的电场中，面向该承载台的承载面且间隔该承载面设有一离子源，该导电网圈设置于承载台上，且围绕待镀膜工件于其内，该导电网圈与待镀膜工件之间形成一指向待镀膜工件的旋转聚焦加速电场。