| 发明名称 | 具有抗反射性能的硬掩模组合物及用其图案化材料的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种具有抗反射性能的硬掩模组合物。该硬掩模组合物适合于光刻，提供了良好的光学和机械性能，并且表现出高蚀刻选择性。此外，该硬掩模组合物可以容易地通过旋涂(spin-on)施加技术而施用。有利地，该硬掩模组合物可用于短波长光刻并具有最小的残留酸含量。 | ||
| 申请公布号 | CN101641390B | 申请公布日期 | 2013.05.01 |
| 申请号 | CN200780052470.0 | 申请日期 | 2007.12.31 |
| 申请人 | 第一毛织株式会社 | 发明人 | 金旼秀;鱼东善;吴昌一;尹敬皓;邢敬熙;李镇国;金钟涉;田桓承;南伊纳;纳塔利娅·托克列娃 |
| 分类号 | C08G61/12(2006.01)I | 主分类号 | C08G61/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 吴贵明;张英 |
| 主权项 | 1.一种由化学式1表示的含芳香环的聚合物：<img file="FSB00000999622700011.GIF" wi="1284" he="438" />其中R<sub>1</sub>选自氢、羟基(-OH)、C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基、C<sub>6</sub>-C<sub>10</sub>芳基、烯丙基和卤素，R<sub>2</sub>选自羟基(-OH)、氨基(-NH<sub>2</sub>)、-OR和-NRR’，在所述-OR中，R为C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基或C<sub>6</sub>-C<sub>10</sub>芳基，在所述-NRR’中，R和R’独立地为C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基或C<sub>6</sub>-C<sub>10</sub>芳基，R<sub>3</sub>选自：<img file="FSB00000999622700012.GIF" wi="1519" he="755" />并且1＜n＜190。 | ||
| 地址 | 韩国庆尚北道 | ||