| 发明名称 | 光刻设备和方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备，包括：辐射源，配置成产生辐射束；和支撑件，配置成支撑图案形成装置。所述图案形成装置配置成将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束。腔定位在辐射源和图案形成装置之间。所述腔包含配置成反射辐射束的至少一个光学部件，所述腔配置成允许来自辐射源的辐射通过其中。隔膜(44)配置成允许辐射束通过并阻止污染物颗粒(54)通过隔膜的管道。颗粒捕获结构(52)配置成允许气体沿间接路径从腔内部流至腔外部。间接路径配置成基本上阻止污染物颗粒(58)从腔内部到达腔外部。 | ||
| 申请公布号 | CN103080840A | 申请公布日期 | 2013.05.01 |
| 申请号 | CN201180031217.3 | 申请日期 | 2011.03.17 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·亚库宁;V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;H·范德斯库特;L·史蒂文斯;M·范卡朋 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/24(2012.01)I;G03F1/62(2012.01)I;G02B5/20(2006.01)I;G02B5/08(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张启程 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括：辐射源，配置成产生辐射束；支撑件，配置成支撑图案形成装置，所述图案形成装置配置成将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束；腔，定位在辐射源和支撑件之间，所述腔包含配置成反射辐射束的至少一个光学部件，所述腔配置成允许来自辐射源的辐射从其中通过；隔膜，限定所述腔的一部分，所述隔膜配置成允许辐射束通过隔膜，并阻止污染物颗粒通过隔膜；和颗粒捕获结构，配置成允许气体沿间接路径从腔的内部流至腔的外部，颗粒捕获结构的间接路径配置成基本上阻止污染物颗粒从腔的内部到达腔的外部。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||