发明名称 金属薄膜形成装置和使用该装置的金属薄膜形成方法
摘要 本发明涉及形成金属薄膜的装置,所述金属薄膜是通过微波间接加热,迅速烧结形成于衬底或其类似物上的含金属组合物而形成;以及使用所述装置形成金属薄膜的方法。本发明用于形成金属薄膜的装置包含:屏蔽罩;至少一个微波产生单元,其安置于所述屏蔽罩中,用以输出微波;及至少一个微波吸收板,其与所述微波产生单元间隔开,用于以微波间接加热涂有含金属组合物的衬底,其中所述微波吸收板包含主体以及涂布所述主体的透明传导膜。另外,本发明用于形成金属薄膜的方法包含:用含金属组合物涂布衬底;使所述衬底接近或紧密接触上面具有透明传导膜的微波吸收板;及通过微波间接加热来烧结所述含金属组合物从而形成金属薄膜或图案的热处理步骤。
申请公布号 CN101983259B 申请公布日期 2013.05.01
申请号 CN200980111996.0 申请日期 2009.03.31
申请人 印可得株式会社 发明人 郑光春;赵显南;文大圭;康敏起;徐元奎;柳志勋
分类号 C23C26/00(2006.01)I 主分类号 C23C26/00(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种形成金属薄膜的装置,包括:屏蔽罩;至少一个微波产生单元,安置于所述屏蔽罩中,用以输出微波;以及至少一个微波吸收板,与所述微波产生单元间隔开,用于以所述微波间接加热涂有含金属组合物的衬底,其中,所述微波吸收板包括主体和涂布在所述主体上的透明传导膜,所述透明传导膜包括包含金属和氧的化合物或金属和氮的化合物的传导材料。
地址 韩国京畿道