| 发明名称 | 用于化学气相沉积工艺的喷淋头 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于在衬底上进行化学气相沉积工艺的喷淋头，包括：金属主体层，在进行化学沉积工艺时的温度低于300摄氏度；外表面层，位于所述金属主体层的靠近衬底一侧的表面，所述外表面层在进行化学气相沉积工艺时的温度高于所述金属主体层的温度。本发明提高了化学气相沉积工艺形成的外延材料层的质量，也提高了化学气相沉积设备的产能和效率。 | ||
| 申请公布号 | CN103074601A | 申请公布日期 | 2013.05.01 |
| 申请号 | CN201210019415.4 | 申请日期 | 2012.01.21 |
| 申请人 | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 | 发明人 | 梁秉文;陈勇;叶芷飞 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 郑玮 |
| 主权项 | 一种用于化学气相沉积工艺的喷淋头，其特征在于，包括：金属主体层，在进行化学沉积工艺时的温度低于300摄氏度；外表面层，位于所述金属主体层的靠近衬底一侧的表面，所述外表面层在进行化学气相沉积工艺时的温度高于所述金属主体层的温度。 | ||
| 地址 | 314300 浙江省嘉兴市海盐县盐北路211号科创园西区1号楼3楼 | ||