| 摘要 |
Przedmiotem wynalazku jest zestaw czyszczacy do ciezkiego oczyszczania przemyslowego instalacji technologicznych z osadów oraz sposób ciezkiego oczyszczania przemyslowego z osadów. Wynalazek ma zastosowanie w produkcyjnych zakladach przemyslowych takich jak rafinerie, petrochemie czy zaklady ciezkiej syntezy chemicznej m.in. do odkoksowywania pieców rafineryjnych, usuwania ciezkiego gudronu i róznego rodzaju polimerów z instalacji petrochemicznych czy oczyszczania niektórych typów reaktorów ze spieczonych i zuzytych katalizatorów. Zestaw czyszczacy do ciezkiego oczyszczania przemyslowego instalacji technologicznej z osadów zawiera generator wysokiego cisnienia (7) medium czyszczacego (16), który polaczony jest droznym w srodku przewodem (8) z co najmniej jedna dysza (1). Zestaw moze byc wyposazony w co najmniej jeden element ssacy (9) polaczony z instalacja technologiczna i moze zawierac w obiegu co najmniej jeden separator zanieczyszczen (10), a takze korzystnie zawiera element grzejny, przy czym dysza (1) wyposazona jest od strony przewodu (8) w element rotujacy (2) medium czyszczace (16), gdzie srednica otworu injekcyjnego dyszy (1) jest równa najmniejszej srednicy elementu ratujacego (2), a najwieksza srednica elementu rotujacego (2), jest co najwyzej równa srednicy przewodu (8) od strony dyszy (1). Element rotujacy (2) korzystnie ma od wewnatrz ksztalt pobocznicy sruby Archimedesa. Sposób ciezkiego oczyszczania przemyslowego instalacji technologicznej z osadów polega na wysokocisnieniowym natrysku medium czyszczacego (16), korzystnie wody, oleju lub cieczy hydraulicznych, na powierzchnie instalacji technologicznej za pomoca dysz (1) mocowanych na przewodach (8) podlaczonych do generatora wysokiego cisnienia (7). Medium czyszczace (16) wprowadza sie w rotacje wokól osi stanowiacej kierunek natrysku, gdzie korzystnie bezposrednio przed natryskiem zwieksza sie jednoczesnie predkosc wyplywu medium czyszczacego (16), przy czym korzystnie zuzyte medium czyszczacej (16) odsysa sie i korzystnie separuje od zanieczyszczen, a czyszczenie wszystkich elementów instalacji technologicznej odbywa sie w tym samym czasie. |
