| 发明名称 |
VAPOR DEPOSITION METHODS OF SICOH LOW-K FILMS |
| 摘要 |
Disclosed are precursors that are adapted to deposit SiCOH films with dielectric constant and Young's Modulus suitable for future generation dielectric films. |
| 申请公布号 |
KR20130043084(A) |
申请公布日期 |
2013.04.29 |
| 申请号 |
KR20127021433 |
申请日期 |
2011.02.17 |
| 申请人 |
L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE |
发明人 |
DUSSARRAT CHRISTIAN;DONIAT FRANCOIS;ANDERSON CURTIS;MCANDREW JAMES J.F. |
| 分类号 |
C23C16/30;C23C16/18;C23C16/50;H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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