Vorrichtung mit fokussiertem Ionenstrahl

摘要

Es wird eine Vorrichtung mit fokussiertem Ionenstrahl bereitgestellt, die eine Gasfeld-Ionenquelle umfasst, wobei die Gasfeld-Ionenquelle einschließt: einen Emitter (41) zum Emittieren eines Ionenstrahls (1); eine Ionenquellenkammer (40) zur Aufnahme des Emitters (41); eine Gasversorgungseinheit (46) zum Zuführen von Stickstoff in die Ionenquellenkammer (40); eine Absaugelektrode (49), an die eine Spannung zum Ionisieren des Stickstoffes und zum Absaugen von Stickstoffionen angelegt wird; und eine Temperaturregeleinrichtung (34) zum Kühlen des Emitters (41).