| 摘要 |
<p>L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat revêtu sur au moins une partie d'au moins une de ses faces d'un empilement de couches minces comprenant au moins une couche d'argent, ledit procédé comprenant une étape de dépôt dudit empilement puis une étape de traitement thermique, ledit traitement thermique étant mis en uvre en irradiant au moins une partie de la surface dudit empilement à l'aide d'au moins une source de lumière incohérente pendant une durée d'irradiation allant de 0,1milliseconde à 00secondes, de sorte que la résistance carrée et/ou l'émissivité dudit empilement est diminuée d'au moins 5% en relatif, la ou chaque couche d'argent restant continue à l'issue du traitement.</p> |
