氧化铜分级阵列薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种氧化铜分级阵列薄膜及其制备方法。薄膜由位于基底上的表面覆有氧化铜的微米球和亚微米球组成，薄膜的厚度为1～10μm，其中的微米球按六方有序排列、亚微米球位于微米球之间，微米球和亚微米球的球直径分别为1～10μm和100～800nm，氧化铜为棒长为50～400nm、棒直径为30～60nm的棒簇状；方法为先于基底上将微米球合成为六方紧密排列的单层晶体模板，再使用活性等离子体刻蚀模板，得到其上的微米球呈六方有序松散排列的模板，接着，先将亚微米球充填于模板的微米球之间的空隙中，得到复合晶体模板，再使用激光脉冲沉积法于复合晶体模板上沉积氧化铜，制得目标产物。它可广泛地用于仿生材料、催化、光电子、微流体器件、气敏器件等领域。

主权项

一种氧化铜分级阵列薄膜，包括表面覆有氧化铜的微球，其特征在于：所述微球为微米球和亚微米球，所述微米球和亚微米球位于基底上，并组成厚度为1～10μm的薄膜，所述薄膜中的微米球按六方有序排列、亚微米球位于微米球之间；所述微米球的球直径为1～10μm，所述亚微米球的球直径为100～800nm；所述氧化铜为棒簇状，所述构成棒簇的氧化铜棒的棒长为50～400nm、棒直径为30～60nm。