发明名称 |
发声装置 |
摘要 |
一种发声装置,其包括一基底;至少一第一电极及至少一第二电极,该至少一第一电极和至少一第二电极间隔设置于该基底上;以及一发声元件,该发声元件包括一碳纳米管结构,该碳纳米管结构与该第一电极和第二电极电连接;其中,所述至少一第一电极和至少一第二电极间隔设置于该发声元件与该基底之间,使该发声元件与该基底之间形成有一间隙。 |
申请公布号 |
CN101771922B |
申请公布日期 |
2013.04.24 |
申请号 |
CN200810241985.1 |
申请日期 |
2008.12.30 |
申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
发明人 |
姜开利;肖林;陈卓;冯辰;刘亮;柳鹏;潜力;李群庆;范守善 |
分类号 |
H04R23/00(2006.01)I |
主分类号 |
H04R23/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种发声装置,其包括:一基底;多个第一电极及多个第二电极,该多个第一电极和多个第二电极交替间隔设置于该基底;以及一发声元件,该发声元件包括一碳纳米管结构,该碳纳米管结构与该多个第一电极和该多个第二电极电连接;其特征在于,所述多个第一电极和多个第二电极间隔设置于所述碳纳米管结构与所述基底之间,使该碳纳米管结构与该基底之间形成有一间隙,所述多个第一电极和多个第二电极为导电浆料通过印刷形成于该基底而制得。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |