一种阻抗匹配方法及等离子体处理设备

摘要

本发明提供一种阻抗匹配方法，包括下述步骤：在工艺间隙时间，读取传感器在射频电源输出功率为零的状态下的输出值，并将其作为在紧接下来的工序过程中的传感器输出模型的静态基准值；在所述工序过程中，根据传感器输出模型、所述静态基准值和传感器的输出而得到实际负载阻抗，并据此调节匹配器中的可调阻抗元件，以实现等离子体处理设备中的阻抗匹配；重复执行上述步骤，直至整个工艺过程结束。本发明还提供一种等离子体处理设备。本发明提供的阻抗匹配方法和等离子体处理设备能够稳定、高效并精确地实现等离子体处理设备中的阻抗匹配，而使射频传输线上的反射功率较小，进而保证射频电源输出功率更为高效地施加到等离子体工艺腔室。

主权项

一种阻抗匹配方法，用于对等离子体处理设备中的射频电源的内部阻抗和负载阻抗进行匹配，其特征在于，所述方法包括：静态基准值获取步骤：在工艺间隙时间，读取传感器在射频电源输出功率为零的状态下的输出值，并将其作为在紧接下来的工序过程中的传感器输出模型中的静态基准值；阻抗匹配步骤：在所述工序过程中，根据传感器输出模型、所述静态基准值和传感器的输出而得到实际负载阻抗，并据此调节匹配器中的可调阻抗元件，以实现等离子体处理设备中的阻抗匹配；重复执行所述静态基准值获取步骤和阻抗匹配步骤，直至整个工艺过程结束。