CMOS影像传感器像元结构及其制造方法

摘要

本发明公开了一种CMOS影像传感器的像元结构及其制备方法，该结构包括硅衬底上的光敏元件和用于标准CMOS器件的多层结构，在所述光敏元件的上方具有形成透光空间的深沟槽，其中，所述深沟槽的侧壁由光线反射屏蔽层环绕，所述光线反射屏蔽层在纵向上连续排布，以反射入射到所述光线反射屏蔽层的光线。本发明将深沟槽被环形的金属互连线、通孔、接触孔和多晶硅所包围，使入射到上面的光线基本被完全反射，避免了光学出串扰的发生，有效地提高了像元的光学分辨率和灵敏度，提升了芯片的性能和可靠性。

主权项

一种CMOS影像传感器的像元结构，其包括硅衬底上的光敏元件和用于标准CMOS器件的多层结构，在所述光敏元件的上方具有形成透光空间的深沟槽，其特征在于：所述深沟槽的侧壁由光线反射屏蔽层环绕，所述光线反射屏蔽层在纵向上连续排布，以反射入射到所述光线反射屏蔽层的光线。