发明名称 共轭二烯系聚合物及其制造方法和该聚合物组合物
摘要 本发明涉及共轭二烯系聚合物及其制造方法和该聚合物组合物。共轭二烯系聚合物为具有基于共轭二烯的单体单元和下述式(I)表示的基团的共轭二烯系聚合物,其特征在于,通过凝胶渗透色谱测定得到的分子量分布曲线中至少存在下述峰H、M和L,以分子量分布曲线的总面积为100%,峰H的总峰面积为3~30%,峰M的总峰面积为5~45%,峰L的总峰面积为40~80%,<img file="B2008101286759A00011.GIF" wi="1120" he="297" />式(I)中,R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自独立地表示碳原子数1~4的烃基、碳原子数1~4的烃氧基、羟基或含有基于共轭二烯的单体单元的聚合物链,m表示0~10的整数,A<sup>1</sup>表示不具有活泼氢的极性官能团。
申请公布号 CN101328231B 申请公布日期 2013.04.24
申请号 CN200810128675.9 申请日期 2008.06.23
申请人 住友化学株式会社 发明人 大岛真弓
分类号 C08F36/04(2006.01)I;C08F8/42(2006.01)I;C08C19/42(2006.01)I;C08L15/00(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I 主分类号 C08F36/04(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 熊玉兰;李平英
主权项 1.共轭二烯系聚合物,其为具有基于共轭二烯的单体单元和下述式(I)表示的基团的共轭二烯系聚合物,其特征在于,通过凝胶渗透色谱测定得到的分子量分布曲线中至少存在下述峰H、M和L,以分子量分布曲线的总面积为100%,峰H的总峰面积为3~30%,峰M的总峰面积为5~45%,峰L的总峰面积为40~80%,上述共轭二烯系聚合物还具有下述A、B、C和D的特征,A:还进一步具有基于芳香族乙烯基的单体单元,以基于共轭二烯的单体单元和基于芳香族乙烯基的单体单元的总量为100重量%,基于芳香族乙烯基的单体单元为10重量%~50重量%;B:以基于共轭二烯的单体单元的含量为100摩尔%时,乙烯基结合量为10摩尔%~70摩尔%;C:依照JIS K6300于100℃测定的门尼粘度为10~200;D:峰H的峰顶的分子量为40万~100万;<img file="FSB00000953358700011.GIF" wi="1103" he="308" />式(I)中,R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自独立地表示碳原子数1~4的烃基、碳原子数1~4的烃氧基、羟基或含有基于共轭二烯的单体单元的聚合物链,m表示0~10的整数,A<sup>1</sup>为不具有活泼氢的极性官能团,表示下述式(II)表示的基团,峰H为峰顶的分子量高于峰M的峰顶的分子量的峰,峰M为以峰H的峰顶的分子量为MH,峰顶的分子量为0.6×MH~0.8×MH的峰,峰L为以峰H的峰顶的分子量为MH,峰顶的分子量为0.2×MH~0.4×MH的峰,<img file="FSB00000953358700012.GIF" wi="758" he="232" />式(II)中,R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>各自独立地表示碳原子数1~8的烃基,或者R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>结合表示碳原子数2~20的2价烃基。
地址 日本东京都