| 发明名称 | 水钻磨抛机的磨抛机构 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种水钻磨抛机的磨抛机构，包括电机、研磨盘和抛光盘，其特征在于：所述研磨盘的中心和抛光盘的中心位于同一轴线上，所述研磨盘的直径比抛光盘小，所述研磨盘和抛光盘均与所述电机传动连接。这种水钻磨抛盘结构，减少了水钻磨抛机的占地空间，使得整机变得精巧，而且提高了研磨盘的线速度，减少了水钻在其上研磨时划伤的几率，提高了水钻加工后的光洁度。 | ||
| 申请公布号 | CN202894929U | 申请公布日期 | 2013.04.24 |
| 申请号 | CN201220622560.7 | 申请日期 | 2012.11.22 |
| 申请人 | 瑞安市万嘉机械有限公司 | 发明人 | 杨朝平;杨朝岳 |
| 分类号 | B24B9/16(2006.01)I | 主分类号 | B24B9/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人 | 林元良 |
| 主权项 | 一种水钻磨抛机的磨抛机构，包括电机、研磨盘和抛光盘，其特征在于：所述研磨盘的中心和抛光盘的中心位于同一轴线上，所述研磨盘和抛光盘均与所述电机传动连接。 | ||
| 地址 | 325200 浙江省温州市瑞安市上望街道渔港码头西首 | ||