发明名称 一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置
摘要 本实用新型公开了一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,包括机械臂,喷淋支架,喷淋头,花篮,制绒槽,所述的机械臂与喷淋支架固定连接,所述的喷淋支架上设有喷淋头,所述的花篮设于喷淋支架的下方与喷淋头相对应,所述的花篮与机械臂通过挂钩连接,所述的制绒槽设于花篮的下方。本实用新型对制绒出来的硅片作进一步的清洗,能够有效去除硅片表面残留的硅酸钠,改善电池片的外观,减少硅片表面的污染,本实实用新型结构简单,有益效果明显,适于产业化生产。
申请公布号 CN202893722U 申请公布日期 2013.04.24
申请号 CN201220502867.3 申请日期 2012.09.27
申请人 奥特斯维能源(太仓)有限公司 发明人 吴亚军;冯立学;梁会宁;胡元庆;李华恩
分类号 B08B3/02(2006.01)I 主分类号 B08B3/02(2006.01)I
代理机构 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人 柏尚春
主权项 一种用于去除硅片表面硅酸钠残留的喷淋装置,其特征在于:包括机械臂(1),喷淋支架(2),喷淋头(3),花篮(4),制绒槽(5),所述的机械臂(1)与喷淋支架(2)固定连接,所述的喷淋支架(2)上设有喷淋头(3),所述的花篮(4)设于喷淋支架(2)的下方与喷淋头(3)相对应,所述的花篮(4)与机械臂(1)通过挂钩连接,所述的制绒槽(5)设于花篮(4)的下方。
地址 215434 江苏省苏州市太仓市太仓港港口开发区平江路88号