发明名称 |
具有高放射率表面的气体散布喷头 |
摘要 |
本发明实施例提供对用于化学气相沉积处理中的处理腔室部件施加表面涂层的方法与设备。一实施例中,所述设备提供喷头设备,所述喷头设备包括主体;多个延伸通过主体的导管,所述多个导管各自具有延伸至主体的处理表面的开孔;及设置于处理表面上涂层,涂层为约50微米至约200微米厚,且涂层包括约0.8的放射系数、约180微英寸至约220微英寸的平均表面粗糙度及约15%或更低的孔隙度。 |
申请公布号 |
CN103069543A |
申请公布日期 |
2013.04.24 |
申请号 |
CN201180041468.X |
申请日期 |
2011.06.09 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
塙広二;基奥温·貌;仲华;崔杰;戴维·布尔;许伟勇;陈亮瑜 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国 |
主权项 |
一种喷头,该喷头包括:一主体;多个导管,该多个导管延伸通过该主体,该多个导管各自具有一开孔,该开孔延伸至该主体的一处理表面;及一涂层,该涂层设置于该处理表面上,且该涂层为约50微米至约200微米厚,且该涂层包括:至少约0.8的放射系数;约180微英寸至约220微英寸的平均表面粗糙度;及约15%或更低的孔隙度。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |