发明名称 | 物理气相沉积成膜设备工艺腔套件 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种物理气相沉积成膜设备工艺腔套件,包括压环、定位螺杆、陶瓷绝缘子、挡板及螺帽,其中所述定位螺杆的顶端固定在所述压环上,所述定位螺杆的底端穿过所述陶瓷绝缘子,并在所述定位螺杆的底端加装螺帽,用于限制挡板的移动,所述陶瓷绝缘子固定安装在所述挡板上。本实用新型能有效的避免压环双环与挡板之间造成尖端放电,形成高电流流过压环,击穿成膜硅片,严重时会击碎硅片的情况,提高工艺可靠性,节约成本。 | ||
申请公布号 | CN202898518U | 申请公布日期 | 2013.04.24 |
申请号 | CN201220501259.0 | 申请日期 | 2012.09.28 |
申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 李文军;费强;刘善善 |
分类号 | C23C14/22(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/22(2006.01)I |
代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人 | 丁纪铁 |
主权项 | 一种物理气相沉积成膜设备工艺腔套件,其特征在于,包括压环、定位螺杆、陶瓷绝缘子、挡板及螺帽,其中所述定位螺杆的顶端固定在所述压环上,所述定位螺杆的底端穿过所述陶瓷绝缘子,并在所述定位螺杆的底端加装螺帽,用于限制挡板的移动,所述陶瓷绝缘子固定安装在所述挡板上。 | ||
地址 | 201206 上海市浦东新区川桥路1188号 |