发明名称 物理气相沉积成膜设备工艺腔套件
摘要 本实用新型公开了一种物理气相沉积成膜设备工艺腔套件,包括压环、定位螺杆、陶瓷绝缘子、挡板及螺帽,其中所述定位螺杆的顶端固定在所述压环上,所述定位螺杆的底端穿过所述陶瓷绝缘子,并在所述定位螺杆的底端加装螺帽,用于限制挡板的移动,所述陶瓷绝缘子固定安装在所述挡板上。本实用新型能有效的避免压环双环与挡板之间造成尖端放电,形成高电流流过压环,击穿成膜硅片,严重时会击碎硅片的情况,提高工艺可靠性,节约成本。
申请公布号 CN202898518U 申请公布日期 2013.04.24
申请号 CN201220501259.0 申请日期 2012.09.28
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 李文军;费强;刘善善
分类号 C23C14/22(2006.01)I 主分类号 C23C14/22(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 丁纪铁
主权项 一种物理气相沉积成膜设备工艺腔套件,其特征在于,包括压环、定位螺杆、陶瓷绝缘子、挡板及螺帽,其中所述定位螺杆的顶端固定在所述压环上,所述定位螺杆的底端穿过所述陶瓷绝缘子,并在所述定位螺杆的底端加装螺帽,用于限制挡板的移动,所述陶瓷绝缘子固定安装在所述挡板上。
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号