| 发明名称 | 用于高陡度非球面光学零件的双摆轴抛光装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于高陡度非球面光学零件的双摆轴抛光装置，包括双摆轴机构和双转子抛光机构，所述双摆轴机构包括偏摆组件和俯仰组件，所述俯仰组件装设于所述偏摆组件的偏摆运动输出端，所述双转子抛光机构装设于所述俯仰组件的俯仰运动输出端。该用于高陡度非球面光学零件的双摆轴抛光装置能够在任何时段提供压力更恒定、去除性能更稳定的高斯去除函数，对于加工高陡度的非球面光学零件效率更高、精度更易实现。 | ||
| 申请公布号 | CN103056744A | 申请公布日期 | 2013.04.24 |
| 申请号 | CN201210550996.4 | 申请日期 | 2012.12.18 |
| 申请人 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 发明人 | 戴一帆;李圣怡;王建敏;宋辞;彭小强;石峰 |
| 分类号 | B24B13/01(2006.01)I | 主分类号 | B24B13/01(2006.01)I |
| 代理机构 | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人 | 赵洪 |
| 主权项 | 一种用于高陡度非球面光学零件的双摆轴抛光装置，包括双摆轴机构（1）和双转子抛光机构（2），其特征在于：所述双摆轴机构（1）包括偏摆组件（11）和俯仰组件（12），所述俯仰组件（12）装设于所述偏摆组件（11）的偏摆运动输出端，所述双转子抛光机构（2）装设于所述俯仰组件（12）的俯仰运动输出端。 | ||
| 地址 | 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国人民解放军国防科学技术大学三院 | ||