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发明名称
互补金氧半导体可抹除程式化唯读记忆体及电子式可抹除程式化唯读记忆体装置及可程式化互补金氧半导体反相器
摘要
一种CMOS EPROM、EEPROM或反相器装置包括一具有一薄闸极介电层之nFET装置及一与该nFET装置并列的具有一厚闸极介电层及一浮动闸电极之pFET装置。该厚闸极介电层大体上厚于该薄闸极介电层。一连接至两个FET装置之共同汲极节点在一记忆体装置之状况下不具有外部连接且在一反相器之状况下具有一外部连接。具有外部电路连接至两个FET装置之源极区域及至该nFET装置之闸电极。该pFET装置与该nFET装置可为平面的、垂直的或FinFET装置。
申请公布号
TWI394266
申请公布日期
2013.04.21
申请号
TW097137509
申请日期
2008.09.30
申请人
万国商业机器公司 美国
发明人
蔡劲;泰克H 宏尼;约翰M 萨福恩
分类号
H01L27/092;H01L21/8238
主分类号
H01L27/092
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
美国
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