| 摘要 |
本发明系关于一种真空处理设备，系能够为用于液晶显示器(LCD)面板的玻璃基板进行真空处理，如蚀刻处理与沈积处理。此真空处理设备包含：具有处理空间之真空腔室；用于支撑基板之基板支撑单元，此基板支撑单元具有矩形形状且安装于真空腔室之中；安装于基板支撑单元之上表面之上的静电夹盘；以及至少一个用于覆盖静电夹盘之边缘的屏蔽元件，其中由静电夹盘及屏蔽元件形成的基板支撑表面的顶端系透过支撑表面延伸单元向着真空腔室之内壁伸出。因此，能够防止在基板之顶端产生边缘效应，进而可以提高基板上蚀刻速度或沈积速度之均一性。 |
