发明名称 目标材料、源、极紫外线微影装置及使用该微影装置之器件制造方法
摘要 本发明揭示一种目标材料,该目标材料经组态以用于经建构及配置以产生具有在一6.8奈米范围内之一波长之一辐射光束的一源中。该目标材料包括:一Gd基组合物,该Gd基组合物经组态以修改Gd之一熔融温度;或Tb;或一Tb基组合物,该Tb基组合物经组态以降低Tb之一熔融温度。
申请公布号 TWI394491 申请公布日期 2013.04.21
申请号 TW098107787 申请日期 2009.03.10
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 可瑞森 法狄米尔 米哈罗维兹;白尼 凡丁 叶弗真叶米希;柏利克 阿诺 詹;依法诺 法拉帝莫 维塔拉维屈;卡士李 康士坦汀 尼可拉威屈;姆尔斯 乔汉斯 哈伯特 乔瑟夫纳;查利洛夫 瑟给;葛鲁许柯夫 丹尼斯
分类号 H05G2/00;G03F7/20 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰