灰阶光罩之缺陷修正方法、灰阶光罩之制造方法、灰阶光罩以及图案转印方法

摘要

本发明系具有：遮光部21、透光部22以及降低使用于光罩使用时之曝光用光之透过量成为既定量之半透光部23的灰阶光罩20之缺陷修正方法；具有：藉由半透光膜26而形成半透光部23且在半透光部23产生缺陷时而特定该缺陷部分51、52之制程、成为包含该缺陷部分51、52之半透光部且除去藉由遮光部和透光部之至少一边所包围之区域之半透光部23整体之半透光膜26之制程、以及在除去该半透光膜26之区域53来形成素材或组成不同于前述半透光膜26之半透光性之修正膜27之制程。