| 摘要 |
曝光装置本体EX，系在投影光学系统PL与基板P之间充满液体50，以投影光学系统PL透过液体50将图案像投影至基板P上，来将基板P曝光。其具备：保持基板P之基板载台PST，将液体50供应至投影光学系统PL之像面侧的液体供应装置1，以及不透过液体50来检测基板P表面之面资讯的焦点、水平检测系统14。曝光装置EX，根据以焦点、水平检测系统14所检测出之面资讯，一边调整基板P表面与透过投影光学系统PL及液体50所形成之像面的位置关系，一边进行基板P之浸没曝光。如此，即能以良好的图案转印精度进行浸没曝光。 |
