发明名称 曝光装置
摘要 一种曝光装置,系以曝光光学系将雷射光束对着玻璃基板相对的扫描,而在该玻璃基板上直接曝露机能性图形的曝光装置,系对该玻璃基板配设于曝光光学系之同侧,其包含以在该玻璃基板搬运方向而在雷射光束扫描位置前侧为摄影位置,来摄取做为预先形成于该玻璃基板之曝光位置基准的黑色矩阵画素的摄影机构;配设于对该玻璃基板上下方向至少一方向以照明画素,而使该摄影机构得以摄影的照明机构;及检出该摄影机构所摄取的该画素预先设定之基准位置,并以该基准位置为基准来控制雷射光束的照射开始或照射停止的光学系控制机构者。由此,可提高机能性图形的重合精度并抑制曝光装置的成本。
申请公布号 TWI394007 申请公布日期 2013.04.21
申请号 TW094113744 申请日期 2005.04.28
申请人 威技研股份有限公司 日本 发明人 伊藤三好
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 郑再钦 台北市中山区民生东路3段21号10楼
主权项
地址 日本