用于制造多工／解多工架构之失准容忍方法

摘要

此揭示系有关用于制造多工/解多工架构之失准容忍制程。一制程系能够以大于传导性结构的一间距之一公差来制造一能够与架构导通之多工/解多工架构。另一制程系能够生成具有大致相同宽度之位址元件及传导性结构。