Método para producir un sello de polímero para la reproducción de dispositivos que comprenden microestructuras y nanoestructuras, y dispositivo correspondiente

摘要

Método para producir un sello de polímero para la reproducción de dispositivos que comprenden microestructurasy nanoestructuras, comprendiendo el método las etapas de: proporcionar un primer sustrato (1); dar un patrón de nanoestructuras (3) que se extienden a lo largo de una primera dirección en el primermaterial de sustrato (1); seguido de dar un patrón de microestructuras (5, 6) sobre el primer sustrato (1); moldear un elastómero de polímero sobre el primer sustrato (1) con nanoestructuras (3) y microestructuras (5,6) para formar un sello (11) de polímero; y liberar el sello (11) de polímero, caracterizado porque la etapa de provisión de un patrón de microestructuras (5, 6) comprende al menos una de las etapas de:formar primeras microestructuras (5) para que se extiendan a lo largo de la primera dirección paraformar canales hidrófilos junto con las nanoestructuras (3) que se extienden en dicha primeradirección, y formar segundas microestructuras (6) para que se extiendan a lo largo de una segunda direccióndiferente de la primera dirección para formar canales hidrófobos junto con las nanoestructuras (3) quese extienden en la primera dirección.