发明名称 一种半导体纳米晶/量子点敏化的晶硅材料及其制备方法
摘要 本发明公开了一种半导体纳米晶/量子点敏化的晶硅材料,由下列重量份配比的物质组成:硫化物1-100份;金属盐1-100份;溶剂100-500份;晶硅材料(硅电池片)。采用连续离子吸附反应结合滴涂、旋涂、浸渍提拉技术直接在晶硅材料上生长量子点。本发明的优点是:1.制备工艺简单,金属硫化物量子点长期稳定。2.可以大幅提高硅太阳能电池光电转化效率;3.本发明的制备工艺简单易操作,原料价廉易得,反应过程低能耗、高效益,适合工业化生产。
申请公布号 CN102184978B 申请公布日期 2013.04.17
申请号 CN201110047463.X 申请日期 2011.02.28
申请人 上海师范大学 发明人 余锡宾;王飞久;杜梦娟;张坤;浦旭鑫
分类号 H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0216(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/0352(2006.01)I
代理机构 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人 张美娟
主权项 一种半导体纳米晶/量子点敏化的晶硅材料,其特征在于:由下列重量份配比的物质组成:硫化物 1‑100份;金属盐 1‑100份;溶剂 100‑500份;晶硅材料。所述的硫化物为硫化钠、硫化铵、硫代乙酰胺、硫脲和硫代硫酸盐中的一种;所述的金属盐为铅、铋、锑、镉、银、锡、锌和铜的金属氯化物、醋酸盐和硝酸盐中的一种;所述的溶剂为水、醇类、烷类、烯类、油胺、油酸和其他有机溶剂中的一种;所述的晶硅材料为单晶硅、多晶硅与非晶硅中的一种。
地址 200234 上海市徐汇区桂林路100号