发明名称 | 一种单级聚焦波带片及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种单级聚焦波带片及其制造方法。本发明的波带片包括:透明衬底;形成于所述透明衬底上的多个不透光基元;所述多个基元数密度沿径向呈余弦或者正弦分布,即呈环带状分布,沿环带呈随机分布;所述各环带半径为rm,rm2=mfλ+m2λ2/4,其中λ为波长,f为焦距,m为环数。基元的形状可以是多边形如六边形、圆形、扇形或其它任意形状中的一种。本发明单级聚焦波带片仅具有一对共轭的一级焦点,可以排除高级衍射带来的干扰和误差;同时本发明单级聚焦波带片结构中只存在有透光和不透光两种区域,是一种二值化结构,易于制作。本发明的单级聚焦波带片的特点表明其将可以用作聚焦、成像元件或单色器波长选择元件。 | ||
申请公布号 | CN103048716A | 申请公布日期 | 2013.04.17 |
申请号 | CN201310005657.2 | 申请日期 | 2013.01.08 |
申请人 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 发明人 | 曹磊峰;范伟;高宇林;魏来;谷渝秋;张保汉 |
分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人 | 翟长明;韩志英 |
主权项 | 一种单级聚焦波带片,其特征在于,所述的波带片包括:透明衬底;形成于所述透明衬底上的多个不透光基元,不透光基元的形状为多边形。 | ||
地址 | 621900 四川省绵阳市919信箱986-6分箱 |