发明名称 |
用于散射仪的反射折射式光学系统 |
摘要 |
本发明公开了一种具有高数值孔径的用于散射仪的反射折射式光学系统,所述光学系统在宽的光谱范围内工作。所述光学系统包括修正板、第一反射表面和第二反射表面。所述修正板调节电磁辐射以修正至少一种像差。所述第一反射表面被定位用于反射由所述修正板所调节的电磁辐射。所述第二反射表面被定位用于将由第一反射表面反射的电磁辐射聚焦到衬底的目标部分上。由第一反射表面反射并由第二反射表面聚焦的电磁辐射不被折射元件折射,因此能够使得所述反射折射式光学系统在宽的光谱范围内工作。 |
申请公布号 |
CN101349804B |
申请公布日期 |
2013.04.17 |
申请号 |
CN200810133692.1 |
申请日期 |
2008.07.18 |
申请人 |
ASML控股股份有限公司 |
发明人 |
Y·K·什马利威;斯坦尼斯拉·Y·斯摩诺伍;伊瑞娜·I·波兹恩斯卡亚 |
分类号 |
G02B17/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B17/08(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种用于散射仪的反射折射式光学系统,所述反射折射式光学系统包括:修正板,所述修正板用于调节电磁辐射、以修正至少一种像差;第一反射表面,所述第一反射表面被定位以反射被调节的电磁辐射的第一部分和折射被调节的电磁辐射的第二部分;和第二反射表面,所述第二反射表面被定位以将被调节的电磁辐射的被反射的第一部分聚焦到衬底的目标部分上,其中,被调节的电磁辐射的第一部分不被光学元件所折射使得所述反射折射式光学系统能够在宽的光谱范围中是消色差的,因此允许所述反射折射式光学系统能够在宽的光谱范围内工作。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |