一种场发射阴极的处理方法

摘要

本发明提供一种场发射阴极的处理方法，包括：化学气相沉积法制备MWCNT；取纯化后的MWCNT粉末在无水乙醇中用超声波分散，室温下自然晾干并充分研磨，再与有机载体混合搅拌1~2小时后作为阴极浆料；在玻璃基板上印制一层60rnm×25mm面积的银浆薄膜电极；烧结处理后，用制作好的碳管浆料以200目丝网在基片印制碳管薄膜；将所有样品共同放在管式炉中，在Ar环境下进行烧结处理后；采用准分子激光系统，在空气中进行5分钟激光烧蚀处理。使得开启场强降低，发射电流增大。

主权项

一种场发射阴极的处理方法，包括：化学气相沉积法制备MWCNT;取纯化后的MWCNT粉末在无水乙醇中用超声波分散，室温下自然晾干并充分研磨，再与有机载体混合搅拌1~2小时后作为阴极浆料；在玻璃基板上印制一层60mm×25mm面积的银浆薄膜电极；烧结处理后，用制作好的碳管浆料以200目丝网在基片中央印制碳管薄膜；将所有样品共同放在管式炉中，在Ar环境下进行烧结处理后；采用准分子激光系统，在空气中进行5分钟激光烧蚀处理。