掩膜版

摘要

本实用新型属于电子和显示制造技术领域，公开了一种掩膜版。通过在形成在透明衬底表面上的遮光层上覆盖透明的防护层，使得在近接曝光形式的曝光过程中，待曝光器件上的光刻胶挥发出的升华物凝结在防护层表面，易于清洗，同时还可以有效防止待曝光器件上的硬质颗粒划伤遮光层，造成掩膜版难以修复的损伤。由于防护层仅覆盖在掩膜版中部的图案区，能够避免掩膜版在搬运过程中损坏防护层。且防护层的厚度为0.1mm左右，相较于掩膜版的厚度（一般为13mm），防护层对光线的吸收可以忽略，不会对曝光过程产生影响。其中，防护层的材质可以为石英玻璃，使得曝光过程中防护层对光线的反射和散射很小，可以忽略，不会影响曝光时的光线分布。

主权项

一种掩膜版，其特征在于，包括透明的衬底和形成在所述衬底表面上的图案化的遮光层，还包括覆盖在所述遮光层上的透明的防护层。