发明名称 石墨膜及石墨复合膜
摘要 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜,其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性,从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的解决方法是采用下述石墨膜,在该石墨膜的MIT耐弯曲试验中,使用15mm宽的长方形试验片,在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次/分钟、载荷为0.98N的条件下,测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
申请公布号 CN101687647B 申请公布日期 2013.04.17
申请号 CN200880022608.7 申请日期 2008.05.15
申请人 株式会社钟化 发明人 太田雄介;若原修平;西川泰司
分类号 C01B31/04(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I 主分类号 C01B31/04(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 周欣;陈建全
主权项 一种石墨膜,其特征在于:是通过在2000℃以上的温度下对由高分子膜及/或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行热处理而得到的石墨膜;对于该石墨膜的倍率为400倍的表面SEM图像使用从NANO System株式会社得到的通用图像处理软件实施浓度测定,得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像,对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化,即阈值=(最大值‑最小值)×0.62(1)进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后,所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。
地址 日本大阪府