发明名称 |
电源装置 |
摘要 |
提供一种电源装置,其即使在以低频对成对的靶外加脉冲电位时也能轻松地实现在基板表面形成薄膜时的膜厚分布均匀化。本发明的电源装置(E)设置有:第一放电电路(E1),其以规定的频率对与等离子接触的一对靶(T1)、(T2)交替外加规定的脉冲电位;第二放电电路(E2),其对前述一对靶中未接收从第一放电电路的输出的靶和接地间外加规定的脉冲电位。 |
申请公布号 |
CN102084024B |
申请公布日期 |
2013.04.17 |
申请号 |
CN200980125400.2 |
申请日期 |
2009.06.17 |
申请人 |
株式会社爱发科 |
发明人 |
松原忍;堀下芳邦;依田英德;柳谷好男;户田健夫 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;H02M7/5387(2007.01)I;H05H1/46(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 |
代理人 |
齐永红 |
主权项 |
一种用于等离子产生用电极的电源装置,其特征在于,设置有:第一放电电路,其对与等离子接触的一对电极以规定的频率交替外加规定电位,放电电流从一个电极到另一电极交替流动;第二放电电路,其对前述一对电极中通过第一放电电路流入放电电流的另一电极和接地间外加规定电位,使放电电流从接地流向前述另一电极。 |
地址 |
日本神奈川县 |