发明名称 |
突发式光模块用浅沟栅状背光探测器及其制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种突发式光模块用浅沟栅状背光探测器及其制作方法,该背光探测器由底部至上部依次包括有n+-InP衬底、高浓度掺杂的n-InP过渡层、中等浓度掺杂的n-InP缓冲层、非故意掺杂的InGaAs光吸收层、扩锌的P-InP覆盖层、P+-InGaAs电接触层及SiO2保护层,该覆盖层与电接触层内形成有浅沟刻蚀区,该浅沟刻蚀区下方位于该光吸收层内形成有氢离子注入高阻区,在该SiO2保护层上设有环状的金属电极,该金属电极包围该浅沟刻蚀区,该金属电极外围设有金属挡光层。本发明的浅沟栅状氢离子高阻隔离区可有效减少光敏区的面积和PN结电容,达到减小光脉冲信号的开启延迟和光关断后的电脉冲拖尾。 |
申请公布号 |
CN103050565A |
申请公布日期 |
2013.04.17 |
申请号 |
CN201210573786.7 |
申请日期 |
2012.12.26 |
申请人 |
华工科技产业股份有限公司 |
发明人 |
丁国庆;唐琦;胡长飞 |
分类号 |
H01L31/109(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/109(2006.01)I |
代理机构 |
北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 |
代理人 |
朱振德 |
主权项 |
一种突发式光模块用浅沟栅状背光探测器,其特征在于,其由底部至上部依次包括有n+‑InP衬底、高浓度掺杂的n‑InP过渡层、中等浓度掺杂的n‑InP缓冲层、非故意掺杂的InGaAs光吸收层、扩锌的P‑InP覆盖层、P+‑InGaAs电接触层及SiO2保护层,该覆盖层与电接触层内形成有浅沟刻蚀区,该浅沟刻蚀区下方位于该光吸收层内形成有氢离子注入高阻区,在该SiO2保护层上设有环状的金属电极,该金属电极包围该浅沟刻蚀区,该金属电极外围设有金属挡光层。 |
地址 |
430223 湖北省武汉市洪山区珞瑜路243号华工科技产业大厦A座12楼 |