发明名称 突发式光模块用浅沟栅状背光探测器及其制作方法
摘要 本发明提供一种突发式光模块用浅沟栅状背光探测器及其制作方法,该背光探测器由底部至上部依次包括有n+-InP衬底、高浓度掺杂的n-InP过渡层、中等浓度掺杂的n-InP缓冲层、非故意掺杂的InGaAs光吸收层、扩锌的P-InP覆盖层、P+-InGaAs电接触层及SiO2保护层,该覆盖层与电接触层内形成有浅沟刻蚀区,该浅沟刻蚀区下方位于该光吸收层内形成有氢离子注入高阻区,在该SiO2保护层上设有环状的金属电极,该金属电极包围该浅沟刻蚀区,该金属电极外围设有金属挡光层。本发明的浅沟栅状氢离子高阻隔离区可有效减少光敏区的面积和PN结电容,达到减小光脉冲信号的开启延迟和光关断后的电脉冲拖尾。
申请公布号 CN103050565A 申请公布日期 2013.04.17
申请号 CN201210573786.7 申请日期 2012.12.26
申请人 华工科技产业股份有限公司 发明人 丁国庆;唐琦;胡长飞
分类号 H01L31/109(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/109(2006.01)I
代理机构 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人 朱振德
主权项 一种突发式光模块用浅沟栅状背光探测器,其特征在于,其由底部至上部依次包括有n+‑InP衬底、高浓度掺杂的n‑InP过渡层、中等浓度掺杂的n‑InP缓冲层、非故意掺杂的InGaAs光吸收层、扩锌的P‑InP覆盖层、P+‑InGaAs电接触层及SiO2保护层,该覆盖层与电接触层内形成有浅沟刻蚀区,该浅沟刻蚀区下方位于该光吸收层内形成有氢离子注入高阻区,在该SiO2保护层上设有环状的金属电极,该金属电极包围该浅沟刻蚀区,该金属电极外围设有金属挡光层。
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