发明名称 |
一种冷却进气布局结构 |
摘要 |
本发明属于PECVD设备的冷却技术领域,具体地说是一种冷却进气布局结构。包括真空腔体、法兰、进气法兰槽及进气管,其中真空腔体的底部设有法兰,所述进气管的一端穿过法兰和真空腔体的底部插入真空腔体内,进气管的另一端通过与法兰连接的进气法兰槽固定于真空腔体的底部。本发明采取改变空气流动方式可以有效降低冷却时间,有效缩短维护周期,提高产能。 |
申请公布号 |
CN103046025A |
申请公布日期 |
2013.04.17 |
申请号 |
CN201210590832.4 |
申请日期 |
2012.12.29 |
申请人 |
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 |
发明人 |
雷震霖;赵崇凌;李士军;张健;张冬;洪克超;徐宝利;钟福强;陆涛;许新;王刚;刘兴;张妍;王学敏;李松;屈秋霞;张缔;朱龙来;徐浩宇;赵科新;闫用用 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 |
代理人 |
何丽英 |
主权项 |
一种冷却进气布局结构,其特征在于:包括真空腔体(3)、法兰(2)、进气法兰槽(1)及进气管(4),其中真空腔体(3)的底部设有法兰(2),所述进气管(4)的一端穿过法兰(2)和真空腔体(3)的底部插入真空腔体(3)内,进气管(4)的另一端通过与法兰(2)连接的进气法兰槽(1)固定于真空腔体(3)的底部。 |
地址 |
110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街一号 |