发明名称 |
液处理装置和液处理方法 |
摘要 |
液处理装置、液处理方法和存储介质。本发明提供液处理装置和液处理方法,能够在一面使基板旋转一面对基板进行液处理时,抑制杯体内的排气量,同时抑制雾从杯体反弹,降低雾向基板的附着。在向晶片(W)进行抗蚀剂的排出的期间,以从流路形成部件(50)沿外侧杯体(42)的内壁面的方式排出清洗液,在外侧杯体(42)的内壁形成清洗液的液膜。从晶片(W)甩开的抗蚀剂由清洗液的液膜捕捉。捕捉了抗蚀剂的清洗液被回收到设置于外侧杯体(42)的底部的流槽部(53),再次从流路形成部件(50)向外侧杯体(42)的内壁面排出。 |
申请公布号 |
CN102078850B |
申请公布日期 |
2013.04.17 |
申请号 |
CN201010517252.3 |
申请日期 |
2010.10.15 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
坂本和生 |
分类号 |
B05C11/08(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
B05C11/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
一种液处理装置,从喷嘴向由基板保持部水平地保持的基板供给处理液来进行处理,该液处理装置的特征在于,包括:使所述基板保持部绕铅垂轴旋转的旋转机构;包围由所述基板保持部保持的基板的杯体;用于从所述杯体的下方侧将该杯体内的气氛吸引排气的吸引排气部;和雾捕捉液的供给口,其沿着所述杯体的周方向设置,用于从与所述基板相同高度或比该基板更高的位置向所述杯体的内周面供给雾捕捉液,该雾捕捉液用于在所述基板旋转而处理液从该基板甩开时,捕捉该处理液的雾,所述雾捕捉液的供给口的雾捕捉液的排出的方向与基板的旋转方向相同。 |
地址 |
日本国东京都 |