| 发明名称 | 光罩清洗方法 | ||
| 摘要 | 一种光罩清洗方法，包括如下步骤：在臭氧清洗设备中进行下述步骤：采用短波长的紫外光照射所述光罩；采用含臭氧的水溶液清洗所述光罩；去离子水清洗所述光罩；然后，在SPM清洗设备中进行下述步骤：去离子水清洗所述光罩；采用SC1溶液清洗所述光罩；去离子水清洗所述光罩；烘干。所述方法可以实现清洗过程中不引入硫酸根离子，并且节约使用臭氧清洗设备。 | ||
| 申请公布号 | CN102078869B | 申请公布日期 | 2013.04.17 |
| 申请号 | CN200910199450.7 | 申请日期 | 2009.11.26 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 陈建山;李德建 |
| 分类号 | B08B7/04(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)N;B08B3/08(2006.01)N;B08B3/04(2006.01)N | 主分类号 | B08B7/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种光罩清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：在臭氧清洗设备中进行下述步骤：采用短波长的紫外光照射所述光罩，通过紫外光照射，将光罩上残留的离子或者结晶缺陷的分子键打断，并使其中的残留离子析出；采用含臭氧的水溶液清洗所述光罩，由臭氧清洗设备将臭氧溶解在去离子水中，以去除光罩上的大部分结晶缺陷或者残留的离子以及在紫外光照射过程中析出的残留离子；去离子水清洗所述光罩；然后，在SPM清洗设备中进行下述步骤：去离子水清洗所述光罩；采用SC1溶液清洗所述光罩；去离子水清洗所述光罩；烘干。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江路18号 | ||